在新标签页中打开
市场直播
上证指数 — —深证成指 — —创业板指 — —北向净买入 —两市成交 —
—
首页/数据中心/股票/拓荆科技 688072.SH
SSE · 科创板 · 更新 2026-11-12 14:02:41
SSE半导体科创板ACF · group_stock

拓荆科技

688072.SH

拓荆科技股份有限公司 · 上市 2022-04-20 · 数据来自 Tushare 代理

512.81+4.81 (+0.95%)收盘 · 2026-11-12
今开 506.87昨收 508.00最高 542.00最低 504.25换手 2.86%
市盈率 TTM53.49
市净率10.84
市销率 TTM19.93
总市值1,498.29 亿
流通市值1,457.34 亿
量比1.04
近 60 日-17.41%
年初至今+55.40%
估值与行业2026-11-12 14:02:42
PE TTM53.49 / 行业中值 70.52
PB10.84 / 行业中值 4.79
PS TTM19.93 / 行业中值 8.60
行业市值排名14
行业 PE 排名52
查看同业对比 →
今开506.87
昨收508.00
最高542.00
最低504.25
成交量8.12 万手
成交额42.55 亿
换手率2.86%
量比1.04
振幅7.43%
总市值1,498.29 亿

公司资料

STOCK PROFILE
公司全称拓荆科技股份有限公司
英文名称—
所属行业半导体
所属地区辽宁 沈阳市
上市日期2022-04-20
成立日期2010-04-28
董事长刘静
总经理刘静
注册资本29,217.33 万元
员工人数2,049
公司官网http://www.piotech.cn
办公地址辽宁省沈阳市浑南区水家900号

公司简介

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商,以前后两任董事长为核心的五名国家级海外高层次专家组建起一支国际化的技术团队,形成了三大类半导体薄膜设备产品系列,先后四次承担国家重大科技专项/课题,被中国半导体行业协会评为2016年度、2017年度、2019年度“中国半导体设备五强企业”。公司自设立以来立足自主创新,通过对薄膜沉积设备核心技术的构建,产品在实现薄膜性能参数的同时,满足了综合生产成本相对较低的商业经济性指标。产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。公司凭借长期技术研发和工艺积累,打破国际厂商对国内市场的垄断,与国际寡头直接竞争。报告期内,公司在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。

主营业务

公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

主营构成

按产品 · —
主营项目收入占比利润
主营构成数据待同步

概念题材

人工维护
暂无概念题材,可在后台月度组「概念题材(人工)」中补充。

关键财务

截至 —
每股收益 EPS— 元
每股净资产 BPS— 元
净资产收益率 ROE—
毛利润—
营业总收入同比—
营业收入同比—

估值与行业

VALUATION
PE TTM53.49 / 70.52
PB10.84 / 4.79
PS TTM19.93 / 8.60
行业市值排名14
查看同业对比 →

最新财务

—
EPS— 元
BPS— 元
ROE—
毛利润—
查看财务 →

主营构成

按产品
主营构成待同步
数据来源:Tushare 代理 · 仅供研究参考,不构成投资建议。更新时间 2026-11-12 14:02:41。